Утвърдил: …………………..
Декан
Дата .............................
СОФИЙСКИ УНИВЕРСИТЕТ “СВ. КЛИМЕНТ ОХРИДСКИ”
Специалност: (код и наименование)
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Магистърска програма: (код и наименование)
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Микроелектроника и Информационни технологии
|
|
|
|
Aналитични методи за изследване на материали и структури в микроелектрониката
Асистент: гл. ас. д-р К. Кирилов
Учебна заетост |
Форма |
Хорариум |
Аудиторна заетост |
Лекции |
45 |
Семинарни упражнения |
|
|
Практически упражнения (хоспетиране) |
15 |
|
Обща аудиторна заетост |
60 |
|
Извънаудиторна заетост |
Самостоятелна подготовка за две контролни работи |
30 |
Самостоятелна подготовка за изпит |
45 |
|
|
|
|
Обща извънаудиторна заетост |
75 |
|
ОБЩА ЗАЕТОСТ |
135 |
|
Кредити аудиторна заетост |
2 |
|
Кредити извънаудиторна заетост |
2.5 |
|
ОБЩО ЕКСТ |
4.5 |
№ |
Формиране на оценката по дисциплината |
% от оценката |
1. |
Тест/Контролни работи върху лекционния материал |
30 |
2. |
Работата на студента по задачите от упражненията |
10 |
3. |
Изпит |
60 |
Анотация на учебната дисциплина: |
||
Програмата се явява естествено продължение на курсовете, изучавани в бакалавърската степен специалност Инженерна Физика: “Физично материалознание”, "Физика на твърдото тяло", “Експериментални методи във физиката на твърдото тяло,”и др. Изследването и изучаването на физичните и физико-химичните свойства на повърхността на твърдото тяло е особено актуално научно и приложно направление поради факта, че на основата на използването на свойствата на повърхността, повърхностните явления и тънките слоеве почива цялото съвременно приборостроене. Това определя и областите, където могат да намерят реализация студентите след завършване на магистърската програма. В курса се изучават най-модерните и най-широко използваните методи за изследване свойствата на твърдотелни повърхности. Обхванати са спектроскопичните методи за анализ на електронната структура и характеризирането на примесите и дефектите в тънки слоеве. Едно второ направление обхваща свойствата на кристалната структура и морфология на повърхността. Дават се практически познания за работа с електронни, йонни и фотонни лъчи в микроанализа. Предварителни изисквания към студентите, слушащи курса са основни познания от курсовете по Електричество и магнетизъм, Оптика, диференциални уравнения, физика на твърдото тяло и физика на полупроводниците. След завършване на курса студентите ще имат теоретична и практическа подготовка за разбиране на взаимодействие на различни лъчения с твърдотелната повърхност, най-модерните аналитични методи за характеризиране и задълбочени познания върху физиката на материали за микро- и оптоелектрониката. Лекциите към курса са придружени с 15 часа практически упражнения , илюстриращи важни моменти от лекционния материал. Оценката на студентите се формира на базата на работата по упражненията, два писмени тест/контролни - (в средата и в края на семестъра) и изпит в края на семестъра.
|
Предварителни изисквания: |
- Електричество и магнетизъм,. Оптика. - Физика на твърдото тяло и физика на полупроводниците |
Очаквани резултати: |
Студентите, завършили успешно курса по Aналитични методи за изследване на материали и структури в микроелектрониката: - имат теоретична и практическа подготовка за разбиране на взаимодействие на различни лъчения с твърдотелната повърхност, - познават най-модерните експериментални методи за анализ на твърдотелната повърхност - получават задълбочени познания върху физиката на материали за микро- и оптоелектрониката
|
№ |
Тема: |
Хорариум |
1. |
Методи за анализ чрез взаимодействие с потоци от електрони, фотони и йони |
|
1.1. |
Обща характеристика на методите за изследване. Понятие за повърхност. Вид на получената информация и област на приложимост |
3 |
2. |
Изследване на електронна структура и химичен състав |
|
2.1. |
Фотоелектронна спектроскопия (XPS). Едноелектронна теория. Възможности и ограничения на XPS. Апаратура и и приложение. Химичен анализ (ESCA). |
4 |
2.2. |
Оже-електронна спектроскопия (AES). Форма и интензитет на линиите. Количествен анализ. Възможности на AES. Сканираща AES. Апаратура и приложение. |
4 |
2.3. |
Сравнение на възможностите и получената информация с XPS и AES. |
2 |
2.4. |
Спектроскопия на енергетичните загуби на бавни електрони. Теория и приложение. |
3 |
2.5. |
Вторична йонна мас- спектрометрия (SIMS). Физически основи. Масспектроскопия на вторични йони. Апаратура за SIMS. Статичен и динамичен режим. Приложение. |
4 |
2.6. |
Определяне на химичен състав с електронна микросонда (EDX, WDX). |
3 |
3. |
Изследване на кристалната структура на повърхността |
|
3.1. |
Нискоенергетична електронна дифракция (LEED). Геометрична теория на дифракцията. Реконструкция на повърхността. Апаратура и възможности. |
5 |
3.2. |
Електронна микроскопия. Принципи и техники. Трансмисионна (TEM) и сканираща (SEM) микроскопия. Приготвяне на микроскопски образци. Характеризиране на структурни дефекти. |
6 |
3.3. |
Тунелна микроскопия. Сканиращ тунелен микроскоп (STM). Принципи и възможности. |
5 |
3.4. |
Изследване на морфология на повърхността - атомно-силов микроскоп (АFМ). |
4 |
4. |
Заключителни бележки. Перспективи за развитие на методите и приложението им. |
2 |
|
|
|
Конспект за изпит
№ |
Въпрос |
1. |
Методи за анализ чрез взаимодействие с потоци от електрони, фотони и йони |
1.1. |
Обща характеристика на методите за изследване. Понятие за повърхност. Вид на получената информация и област на приложимост |
2. |
Изследване на електронна структура и химичен състав |
2.1. |
Фотоелектронна спектроскопия (XPS). Едноелектронна теория. Възможности и ограничения на XPS. Апаратура и и приложение. Химичен анализ (ESCA). |
2.2. |
Оже-електронна спектроскопия (AES). Форма и интензитет на линиите. Количествен анализ. Възможности на AES. Сканираща AES. Апаратура и приложение. |
2.3. |
Сравнение на възможностите и получената информация с XPS и AES. |
2.4. |
Спектроскопия на енергетичните загуби на бавни електрони. Теория и приложение. |
2.5. |
Вторична йонна мас- спектрометрия (SIMS). Физически основи. Масспектроскопия на вторични йони. Апаратура за SIMS. Статичен и динамичен режим. Приложение. |
2.6. |
Определяне на химичен състав с електронна микросонда (EDX, WDX). |
3. |
Изследване на кристалната структура на повърхността |
3.1. |
Нискоенергетична електронна дифракция (LEED). Геометрична теория на дифракцията. Реконструкция на повърхността. Апаратура и възможности. |
3.2. |
Електронна микроскопия. Принципи и техники. Трансмисионна (TEM) и сканираща (SEM) микроскопия. Приготвяне на микроскопски образци. Характеризиране на структурни дефекти. |
3.3. |
Тунелна микроскопия. Сканиращ тунелен микроскоп (STM). Принципи и възможности. |
3.4. |
Изследване на морфология на повърхността - атомно-силов микроскоп (АFМ). |
4. |
Заключителни бележки. Перспективи за развитие на методите и приложението им. |
1. |
Методи за анализ чрез взаимодействие с потоци от електрони, фотони и йони |
1.1. |
Обща характеристика на методите за изследване. Понятие за повърхност. Вид на получената информация и област на приложимост |
2. |
Изследване на електронна структура и химичен състав |
2.1. |
Фотоелектронна спектроскопия (XPS). Едноелектронна теория. Възможности и ограничения на XPS. Апаратура и и приложение. Химичен анализ (ESCA). |
2.2. |
Оже-електронна спектроскопия (AES). Форма и интензитет на линиите. Количествен анализ. Възможности на AES. Сканираща AES. Апаратура и приложение. |
2.3. |
Сравнение на възможностите и получената информация с XPS и AES. |
2.4. |
Спектроскопия на енергетичните загуби на бавни електрони. Теория и приложение. |
|
|
Библиография
Основна:
1. Semiconductor materials and device characterization, D. K. Schroder, J. Willey & Sons, 1993. достъпна онлайн на адрес: http://elearning-phys.uni-sofia.bg/~epv/
2. Semiconductor devices, S. Sze, J. Willey & Sons , 1985 .
3. Методы анализа поверхностей, ред. А. Зандерн, 1979г.
5. Лекционнен материал на преподавателя, достъпна онлайн на адрес: http://elearning-phys.uni-sofia.bg/~epv/
Допълнителна:
1. Электронная и йонная спектроскопия твердых тел, ред. Фирманс, Вунник, Декейсер, 1981.
Дата: 27.02.2013 Съставил:
доц. д-р Евгения Петрова Вълчева